UV光解除臭装置工艺原理

未知, 2020-07-30 11:07, 次浏览

UV光解除臭装置工艺原理
 
1、运用高能高臭氧紫外线光束分化空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,然后产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对有机气体及其它刺激性异味有马到成功的铲除作用。有机性气体运用排风设备输入到本净化设备后,运用高能紫外线光束及臭氧对有机(异味)气体进行协同分化氧化反响,使有机气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。
 
2、高能离子空气净化系选用正负双极电离技能。在电场作用下,离子产生器产生很多的 a 粒子, a 粒子与空气中的氧分子进行磕碰而构成正负氧离子。正氧离子具有很强的氧化性,能在极短的时间内氧化分化甲硫醇、氨、硫化氢等污染因子,且在与 VOC 分子相触摸后翻开有机挥发性气体的化学键,通过一系列的反响后zui终生成二氧化碳和水等安稳无害的小分子。一起氧离子能损坏空气中细菌的生存环境,下降室内细菌浓度。带电离子能够吸附***于本身分量几十倍的悬浮颗粒,靠自重沉降下来,然后铲除空气中悬浮胶体到达净化空气的意图
 
3、催化剂(二氧化钛)在遭到紫外线光照耀时生成化学生动性很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基,进犯有机物,到达降解有机物的作用。二氧化钛归于非溶出型资料,在完全分化有机污染物和杀灭菌的一起,本身不分化、不溶出,光催化作用耐久,并具有耐久的灭菌、降解污染物作用。